首页 > 文档云仓 > 行业研究 | 企业研究 > 电子|半导体 > 光刻胶行业深度报告:光刻核心材料亟需替代,国产光刻胶黄金发展机遇已至
【报告导读】大陆光刻胶自给率较低,国产替代空间广阔。就 IC 光刻胶而言,2020 年我国 IC光刻胶自给率低,其中 g/i 线光刻胶自给率小于 10%,KrF 光刻胶约 5%,更高端的 ArF 及 EUV 光刻胶几乎空白。面板胶方面,LCD 光刻胶的全球供应集中在日本、韩国、中国台湾等地区,我国彩色和黑色光刻胶市场国产化率仅为 5%左右。PCB 光刻胶方面,感光油墨及湿膜光刻胶合计自给率约 46%,但相对高端的干膜光刻自给率较低。我国光刻胶整体自给率偏低,大陆供应商替代空间广阔。
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