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半导体行业：掩模版，光刻蓝本蓄力国产替代，国内成长空间广阔（21页）.pdf
举报与投诉【报告导读】掩模版是微电子制造过程中的图形转移母版，精度和质量会直接影响下游制品的优品率。
掩模版由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩模图形，用于选择性地阻挡曝光、辐照或物质穿透，将设计好的芯片电路图通过曝光等工艺转移至下游行业的基板或晶圆上，是微电子制造过程中的图形转移工具或者母版。作为光刻复印图形的基准和蓝本，掩模版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩模版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。
掩模版属于定制化产品，具备一定抗周期属性。
掩模版属于定制化产品，不同下游领域的不同客户对于掩模版的尺寸、精度要求均有不同。例如，当终端电子产品处于下行周期时，客户会试图通过推出新品来刺激消费需求。而各种新品在研发过程中就需要用到不同的掩模版，因此会在一定程度上降低掩模版由于行业下行带来的需求下降影响。
产能转移与新兴技术将共同促进全球掩模版市场规模增长。
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青云豆
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