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半导体行业深度报告：晦极而明，半导体光学迈向璀璨转折点（27页）.pdf
举报与投诉【报告导读】光学领域仍为设备自主可控最短板：国产光刻机（覆盖90nm工艺）与量检测设备（明场工艺可覆盖65nm）仍为半导体设备自主可控最短板。国内光学产业链发力攻克难关：量检测等光学设备营收快速增长，2023年主要上市公司营收规模合计可能达到十余亿元，对上游光学元件需求有望快速增长。
光学元件影响关键性能指标，进口依赖国外：半导体光学设备使用激光器、工业相机（光电传感器）、运动平台（工件台）等多种光学元件；上述元件技术水平决定光刻机/量检测设备性能。2021年全球半导体光学零部件市场约82亿美元，海外企业占据市场主导地位；国内进口面临供应链风险，制约国内光刻与量检测设备迈向更高端制程。
精密光学制造加工难度大，国内尚存差距：加工、材料、设备等环节共同决定精密光学的工艺水平，需要漫长时间的积累与磨合。VLSI统计2022年全球工业精密光学加工市场规模160亿人民币，多数蔡司、尼康等海外企业占据。我国超精密光学加工产业起步较晚，整体仍处于追赶状态，进步空间大。
国内半导体光学产业链初具规模：受益于多个行业需求带动与国家重大专项支持，我国半导体光学产业进步较快：围绕光刻设备平台，长春光机所、科益虹源、华卓精科等企业技术快速进步；光刻与量检测设备存在大量技术重叠，两大领域互相支援、和谐共振，加快国内半导体光学产业发展。
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