首页 > 文档云仓 > 行业研究 | 企业研究 > 化工化学|新材料 > 通信行业碳化硅专题之衬底篇:占据价值高地,国产崛起机遇已至
【报告导读】碳化硅性能优异,先进生产力代表。第三代半导体材料是指以碳化硅、氮化镓为代表的宽禁带半导体材料,碳化硅 衬底是新近发展的宽禁带半导体的核心材料,以其制作的器件具有耐高温、耐高压、高频、大功率、抗辐射等特点, 具有开关速度快、效率高的优势,可大幅降低产品功耗、提高能量转换效率并减小产品体积。
产业链价值高地,产能释放最关键环节。衬底是碳化硅产业链的核心,在碳化硅器件的成本占比当中:衬底、外延、 前段分别占比47%、23%、19%。我们认为,衬底环节是产业链的价值高地,而衬底行业的发展也是未来碳化硅产 业降本、大规模产业化的主要驱动力。
产能迭代升级,需求起量在即,国产厂商正崛起。目前碳化硅衬底市场以海外厂商为主导,国内企业市场份额较小。 国内尺寸迭代较海外厂商略慢一筹,但近年来发展提速明显。山西烁科为首家宣布可制备8英寸SiC衬底。2021年8 月,山西烁科研制出8英寸碳化硅晶体。2022年1月,公司实现8英寸N型碳化硅抛光片小批量生产。截至2022年11 月,晶盛机电、天岳先进、天科合达分别宣布掌握8英寸碳化硅衬底制备技术。我们认为,随着国内衬底产品日益成 熟、扩产进度逐渐加速,中国衬底厂商有望重塑行业格局,未来在碳化硅衬底环节占领一席之地。
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