首页 > 文档云仓 > 行业研究 | 企业研究 > 电子|半导体 > 【半导体行业研究报告】光刻胶:破壁引光 小流成海
【报告导读】1.光刻工艺是集成电路制造中最为关键的工序,是其他步骤能正常进行的先决条件;2.光刻胶是半导体材料中技术壁垒高;3.光刻胶按照应用领域可分为 PCB 用光刻胶、显示面板用光刻胶与集成电路用光刻胶。
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