首页 > 文档云仓 > 行业研究 | 企业研究 > 电子|半导体 > 【半导体行业研究报告】光刻胶:破壁引光 小流成海

【半导体行业研究报告】光刻胶:破壁引光 小流成海(46页).pdf
  Tina   2021-09-05   20800 举报与投诉
 Tina   2021-09-05  2.0万

【报告导读】1.光刻工艺是集成电路制造中最为关键的工序,是其他步骤能正常进行的先决条件;2.光刻胶是半导体材料中技术壁垒高;3.光刻胶按照应用领域可分为 PCB 用光刻胶、显示面板用光刻胶与集成电路用光刻胶。

分享

格式

pdf

大小

4.40MB

青云豆

3

下载

收藏(139)

格式

pdf

大小

4.40MB

青云豆

3

下载
139
举报与投诉
确认提交
取消
维权须知

如果您觉得此文档侵犯了您的合法权利,请填写以上内容并提交。请您务必阅读并参照网站底部的“用户协议”、“隐私协议”中关于侵权问题的处理方法,积极维护您的权益,我们将尽快处理以维护您的合法权益。

温馨提示

您的青云豆余额不足,请充值后再下载!

去充值 ×

下载支付确认

【半导体行业研究报告】光刻胶:破壁引光 小流成海.pdf

所需支付青云豆:3

确认支付
取消支付
分享
菜单 登录/注册