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【公司研报】拓荆科技深度分析报告：半导体薄膜沉积设备龙头稀缺性凸显，在手订单充沛开启加速成长期（32页）.pdf
举报与投诉报告摘要：
公司是国内半导体薄膜沉积设备龙头，饱满订单驱动业绩与盈利能力双增。
公司成立于 2010 年，主要从事高端半导体专用设备 PECVD、ALD 和 SACVD 的研发与销售。自 2011 年 10 月首台 12 英寸 PEVCD 出厂到中芯国际验证， 公司陆续推出 PF-300T、PF-200T、HTM、ACHM 等型号丰富的 PECVD 设备 系列生产线，并加速 ALD 和 SACVD 设备研发进程，持续提升竞争力。不断 拓展新客户，至今已进入中芯国际、华虹集团、长江存储、厦门联芯、燕东微 电子等国内领先集成电路制造企业产线，打破国际龙头对国内市场垄断。产品 广泛应用于上述晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试，截止 2022 年 2 月，客户端累计流片量超过 5000 万片，引领半导体薄膜沉积设备国产化浪潮。
行业高景气与国产替代趋势共振，国内半导体设备厂商奋起直追。
5G、新能源汽车、AIOT 领域的蓬勃发展开启全球新一轮半导体景气周期，晶圆厂积极扩产，投资热情持续高涨，带动半导体设备市场不断增长。据 IC Insights 数据， 全球半导体行业资本开支在 2021 年同比大涨 36%至 1536 亿美元，创历史新高，2022 年有望继续增长 24%至 1904 亿美元。同时近年来地缘政治格局紧张、 新冠疫情不确定性等加剧半导体供应短缺，国内供应链自主可控需求急切，以 北方华创、中微公司、拓荆科技、盛美上海等为代表的优质国产半导体设备厂 商抓住历史机遇，积极配合下游晶圆厂验证导入，在细分领域实现突破，取得 阶段性进展。随着下游晶圆厂新一轮扩产，国内设备厂商有望在成熟制程产线 提高覆盖率，并在先进制程中崭露头角，于国产替代进程中不断提升话语权。
PECVD 设备放量增长，ALD 和 SACVD 业务蓄势待发。
根据行业资本开支数 据进行测算，公司所处的 PECVD+ALD+SACVD 细分赛道，在中国市场已突 破 100 亿元规模，空间广阔。公司 PECVD 设备已基本覆盖 28nm 及以上前道 工艺各制程节点，14nm 验证正在积极推进中，下游领域涉及逻辑、存储、先进封装，是唯一实现半导体 PECVD 设备产业化的国产厂商，2021 年该业务实 现销售额 6.75 亿元，同比增长 61.49%，在手订单饱满，业务持续高增。公司 ALD 设备处于国内领先地位，2021 年完成小批量出货，14nm 制程验证顺利， ALD 具有深沟槽、台阶覆盖率更高的薄膜沉积技术优势，未来将是公司推进 先进制程战略重要的发展方向。SACVD 设备方面，公司亦是唯一一家实现产 业化应用的国产厂商，2021 年完成第二台设备的销售，SACVD 有望成为公司 新兴业务重要一极。
盈利预测、估值及投资评级。
全球半导体设备市场持续高景气，公司显著受益 于薄膜沉积设备需求增长；充分受益于国产替代机遇，截至 2021 年 9 月，公 司在手订单超过 15 亿元（对应合同负债 4.45 亿元），2022 年一季度末合同负 债 7.8 亿元（YoY+258%，QoQ+60%），采购及订单规模迅速扩大。我们预测 2022-2024 年公司营业收入分别为 15.0/21.9/30.3 亿元，结合公司所处百亿赛道 市场空间、行业平均估值水平，以及更纯正的半导体业务结构，给予 2022 年 15 倍 PS，对应目标价为 178.1 元，首次覆盖给予“强推”评级。
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