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电镀铜设备行业报告：打开锂电光伏新应用，建议关注镀铜设备（34页）.pdf
举报与投诉【报告导读】N 型加速渗透下，电镀铜有望推动去银化降本。随着 P 型电池逼近效率极限，N 型电池将 逐渐展开对 P 型的替代。2022 年来公布的扩产规划中明确为 N 型的占比 56%，随着 N 型电池扩产落地，浆料端成本占比将抬升，同时有限的银矿产量无法支撑光伏用银需求的 快速增长，推动行业持续进行低银化和去银化探索。电镀铜作为去银化终局技术，具备导 电性能更优、栅线宽度更细发电效率更高、节约原材料成本等优势，有望实现铜对银的完 全替代。电镀铜过程可分为图形化和金属化，核心难点在于图形化。
图形化环节是电镀铜技术核心突破点，可通过光刻或激光方式实现。电镀铜的图形化环节 主要包括镀种子层、掩膜/感光油墨、曝光显影/激光开槽等步骤，直接在 TCO 薄膜上电镀 金属电极是非选择性的，而且 TCO 和电镀铜之间的附着性能较差容易引发电极脱落，因此 电镀之前需要在 TCO 薄膜表面沉积种子层，并沉积图形化的掩膜以实现选择性电镀。
图形化可通过光刻或激光方式实现，其中光刻路线包括激光直写光刻和掩模光刻两种方式。掩膜光刻精度高主要用于中高端 IC 制造，成本较高，产业化应用的实现需要持续推进降本； 激光直写方式相比掩膜光刻成本较低，且精度能够满足太阳能电池片的需求；激光路径对 激光精度要求较高，要做到无损伤电池，并且配合后续的化学制程设备，未来还需要进一 步提高设备效率。推荐标的：迈为股份（储备图形化和电镀铜设备）、帝尔激光（图形化 环节激光设备）、芯碁微装（直写光刻曝光机）、苏大维格（深耕图形化+光刻设备）、 天准科技（LDI 设备新秀）。
金属化环节垂直/水平电镀各有亮点，效率提升是关键。金属化主要包括电镀铜、去光感胶、 PVD 镀焊接层等环节，金属化环节的主要设备即为电镀设备。电镀铜工艺根据电池片的放 置及传送方式不同分为垂直电镀和水平电镀：垂直电镀工艺及设备较为成熟，技术难度相 对较低，主要应用于 PCB 领域，采用夹点挂镀方式，自动化难度较高限制生产效率；水平 电镀无需进行手工装挂，能够实现自动化作业，突破垂直电镀的大产能量产瓶颈，未来或 将成为电镀工艺的重要发展方向，但技术难度较高，在设备研发设计等方面需要一定时间 攻克技术瓶颈。目前电镀设备的产能与丝网印刷设备相比还存在差距，未来电镀铜设备的 生产效率提升将是主要关注点。推荐标的：东威科技（电镀设备）。
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