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【公司研报】拓荆科技公司分析报告：国产薄膜沉积设备龙头，广阔空间加速成长（27页）.pdf
举报与投诉报告摘要：
国内唯一 PECVD、SACVD 产业化供应商，打破外资垄断。
拓荆科技成立于 2010 年， 十余年来专注于半导体薄膜沉积设备，承担多项国家科技重大专项，是国内唯一一 家产业化应用 PECVD 和 SACVD 设备的供应商，主要产品包含 PECVD 设备、ALD 设备 及 SACVD 设备三个系列，产品已适配国内最先进的 28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 芯片及 64/128 层 3D NAND FLASH 晶圆制造产线，并应用于中芯国际、华虹集团、长 江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂，累计发货超 150 台， 打破外资厂商在国内的垄断局面。
营收连续高增，盈利能力快速提升。
受益于国内半导体设备需求快速增长，公司持 续研发投入进行产品迭代，提升竞争力，公司营收自 2018 年 0.71 亿元增长至 2021 年 7.6 亿元，归母净利润由 2018 年的-1.0 亿元，到 2021 年扭亏为盈 6848.7 万元。 此外随着规模化逐步体现、工艺技术提升、先进工艺机台推出，公司毛利率快速提 升，由 2018 的 31.67%提升至 2021 年 44.0%，2022Q1 进一步提升至 47.4%。 2020 年全球薄膜设备市场达到 138 亿美元，占 IC 制造设备 21%；其中主要是 CVD 和 PVD，合计占 IC 制造设备 18%。CVD 市场规模达到 89 亿美元，主流是 设备包括 PECVD、Tube CVD、LPCVD 和 ALD 等。整个薄膜市场市占率最高的是 AMAT。 高端领域如 ALD 受 ASM、TEL 和 Lam 等海外龙头主导。根据 Gartner，全球 CVD 市 场前五大供应商包括 AMAT（28%）、Lam Research（25%）、TEL（17%）、Kokusai （原日立高新，8%）、ASM（11%）。
国内薄膜厂商加速导入，国产化率仍有较大提升空间。
根据招标网数据统计，长江 存储在 2019~2020 年采购薄膜类设备约每年 200 多台（主要是 CVD 和 PVD），主要 类别以 CVD 为主，其中原子层沉积 70~80 台。从国产替代率而言，溅镀（PVD 类） 北方华创供应数量比重较高，合计达到将近 20%；CVD 类国产替代率较低，主要国 产供应商拓荆科技供应占比约 2~3%。北方华创、拓荆科技在华虹无锡、华力集成 项目合计国产化率约 10~15%。 国产 PECVD 领军者，研产销均有先发优势，充分受益国产化进程。在 PECVD、ALD 及 SACVD 设备领域，拓荆科技产品总体性能和关键性能参数已达国际同类设备水平。作 为国内唯一实现 PECVD 及 SACVD 设备产业化应用的厂商，2019 至 2020 年公司 PECVD 设备中标机台数量占长江存储、上海华力、无锡华虹和上海积塔四家招标总量的 16.65%；同时公司还已与某国际领先晶圆厂建立业务联系，发货两台设备至该厂先 进制程研发产线，奠定全球市场基础。我们预计公司将在 2022 年至 2024 年实现收 入 11.87/17.64/23.27 亿元，归母净利润 1.12/2.26/3.56 亿元，对应当前估值 135.0/66.7/42.4x，首次覆盖，给予“买入”评级。
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