首页 > 文档云仓 > 行业研究 | 企业研究 > 电子|半导体 > 【半导体行业专题报告】光刻机行业研究框架
【报告导读】光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,在制造设备投资额中单项占比高达23%,技术要求极高,涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。
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