首页 > 文档云仓 > 行业研究 | 企业研究 > 电子|半导体 > 电子行业光刻机深度:筚路蓝缕,寻光刻星火
【报告导读】光刻机由三大核心系统,数万个零件组成,是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。1)光源方面,DUV采用准分子激光器,技术掌握在Cymer 和Gigaphoton手中,国内科益虹源打破垄断;EUV光源是通过高功率CO2激光器轰击Sn滴而来,高功率激光器为核心组件。2)光学系统是光刻机 分辨率成像的保证,由照明系统和物镜系统构成,照明系统优化成像过程,实现分辨率增强;投影物镜系统将掩模图形聚焦成像,ZEISS为ASML关 键光学元件独供商,国内技术水平仍有较大差距。3)双工件台系统有效提高了光刻精度与效率,国内华卓精科和清华大学团队走在前列。
光刻重要性愈显,国内亟待0→1的突破。半导体行业十年翻倍,晶圆厂积极扩产,叠加芯片性能升级,光刻强度上升,预计5nm逻辑芯片的光刻支 出占比达35%,光刻工艺的重要性愈发凸显,市场规模快速增长,预计2024年有望达230亿美元,ASML在高端市场一枝独秀。2022年中国大陆光 刻机进口约40亿美元,主要从日本、荷兰进口,出口管制下光刻机存在断供隐忧,自主可控势在必行。依托举国之力,汇聚各科研院之所长,目前 已有阶段性成果陆续落地。光刻机产业化渐近,零部件投资先行,我们测算国内零部件市场空间约150亿元,市场空间大、技术关键性强。
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