首页 > 文档云仓 > 行业研究 | 企业研究 > 电子|半导体 > 【半导体行业专题报告】光刻机行业研究框架
【报告导读】光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,在制造设备投资额中单项占比高达23%,技术要求极高,涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。
收藏(136)
点赞(241)
格式
大小
8.40MB
青云豆
9
半导体零部件深度报告:高度依赖进口,核心零部件进入投资元年(30页).pdf
智能驾驶行业研究框架二:智驾芯片及域控制器(25页).pdf
半导体行业月度深度跟踪:行业景气仍处下行通道,美国加大限制强化国产替代(76页).pdf
士兰微公司深度研究报告:持续迈进的功率IDM龙头(45页).pdf
【半导体行业研究报告】北方华创:半导体国产设备最强龙头,多款产品引领国产替代进程(26页).pdf
【半导体设备企业研究报告】芯碁微装:直写光刻设备龙头,发力光伏铜电镀(41页).pdf
科技行业主题研究:光刻技术背后的投资机遇,另辟蹊径探索国产半导体产业链(33页).pdf
AIGC行业深度报告:华为算力分拆,全球AI算力的第二极(53页).pdf
【半导体行业分析报告】半导体前道设备:2021年前道设备再迎新黄金时代(139页).pdf
半导体行业深度报告(二):存储市场柳暗花明,国产替代未艾方兴(50页).pdf
如果您觉得此文档侵犯了您的合法权利,请填写以上内容并提交。请您务必阅读并参照网站底部的“用户协议”、“隐私协议”中关于侵权问题的处理方法,积极维护您的权益,我们将尽快处理以维护您的合法权益。
下载支付确认
【半导体行业专题报告】光刻机行业研究框架.pdf
所需支付青云豆:9